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重庆宏景芯科微电子技术研究院有限公司检测中心

当前查看:重庆宏景芯科微电子技术研究院有限公司检测中心

重庆市

地址:重庆高新区西永街道西园一路28号惠普研发楼01栋1-2层

联系电话:023-65008089

数据更新时间

2026-05-12

能力范围

当前展示该机构前 100 条能力;该机构共 130 条能力记录。

按标准归类为 25 个标准,每个标准下方直接显示可检测项目,点击可展开全部。

GB/T17574-1998

半导体器件集成电路第2部分:数字集成电路 第3节

13 项检测项目

检测项目:输入钳位电压V<Sub>IK</Sub>、输出高电平电压V<Sub>OH</Sub>、输出低电平电压V<Sub>OL</Sub>、输入高电平电流I<Sub>IH</Sub>、输入低电平电流I<Sub>IL</Sub>、输出短路电流I<Sub>OS</Sub>、输出高阻态电流I<Sub>OZ</Sub>、静态条件下的电源电流 等 13 项,点击展开全部

检测对象:TTL集成电路

输入钳位电压V<Sub>IK</Sub>输出高电平电压V<Sub>OH</Sub>输出低电平电压V<Sub>OL</Sub>输入高电平电流I<Sub>IH</Sub>输入低电平电流I<Sub>IL</Sub>输出短路电流I<Sub>OS</Sub>输出高阻态电流I<Sub>OZ</Sub>静态条件下的电源电流

检测对象:半导体集成电路存储器

功能测试输出高电平电压V<Sub>OH</Sub>输出低电平电压V<Sub>OL</Sub>输出高阻态电流I<Sub>OZ</Sub>输入高电平电流I<Sub>IH</Sub>输入低电平电流I<Sub>IL</Sub>动态条件下的总电源电流静态条件下的电源电流存储器的特定时间:读存取时间存储器的特定时间:写恢复时间延迟时间

检测对象:半导体集成电路微处理器及外围接口电路

功能测试

GB/T 6798-1996

半导体集成电路电压比较器测试方法的基本原理 方法

13 项检测项目

检测项目:输入失调电压V<Sub>IO</Sub>、输入失调电流I<Sub>IO</Sub>、输入偏置电流I<Sub>IB</Sub>、静态功耗P<Sub>D</Sub>、开环电压增益A<Sub>VD</Sub>、共模抑制比K<Sub>CMR</Sub>、电源电压抑制比K<Sub>SVR</Sub>、输出高电平电压V<Sub>OH</Sub> 等 13 项,点击展开全部

检测对象:半导体集成电路电压比较器

输入失调电压V<Sub>IO</Sub>输入失调电流I<Sub>IO</Sub>输入偏置电流I<Sub>IB</Sub>静态功耗P<Sub>D</Sub>开环电压增益A<Sub>VD</Sub>共模抑制比K<Sub>CMR</Sub>电源电压抑制比K<Sub>SVR</Sub>输出高电平电压V<Sub>OH</Sub>输出低电平电压V<Sub>OL</Sub>高电平输出电流I<Sub>OH</Sub>低电平输出电流I<Sub>OL</Sub>低电平选通电流I<Sub>ST(L)</Sub>高电平选通电流I<Sub>ST(H)</Sub>

半导体集成电路运算放大器测试方法 GJB 9147-2017 方法

半导体集成电路运算放大器测试方法 GJB 9147-2017 方法

9 项检测项目

检测项目:输入失调电压V<Sub>IO</Sub>、输入失调电流I<Sub>IO</Sub>、输入偏置电流I<Sub>IB</Sub>、静态功耗P<Sub>D</Sub>、开环电压增益A<Sub>VO</Sub>、共模抑制比K<Sub>CMR</Sub>、电源电压抑制比K<Sub>SVR</Sub>、输出峰峰电压V<Sub>OPP</Sub> 等 9 项,点击展开全部

检测对象:半导体集成电路运算电压放大器

输入失调电压V<Sub>IO</Sub>输入失调电流I<Sub>IO</Sub>输入偏置电流I<Sub>IB</Sub>静态功耗P<Sub>D</Sub>开环电压增益A<Sub>VO</Sub>共模抑制比K<Sub>CMR</Sub>电源电压抑制比K<Sub>SVR</Sub>输出峰峰电压V<Sub>OPP</Sub>输出短路电流I<Sub>OS</Sub>

半导体光电耦合器测试方法 SJ/T2215-2015 方法

半导体光电耦合器测试方法 SJ/T2215-2015 方法

7 项检测项目

检测项目:正向电压(输入二极管)V<Sub>F</Sub>、反向电流(二极管)I<Sub>R</Sub>、反向击穿电压(二极管)V<Sub>BR</Sub>、集电极-发射极击穿电压V<Sub>(BR)CEO</Sub>、集电极-发射极饱和电压V<Sub>CE(sat)</Sub>、电流传输比CTR、集电极-发射极截止电流(直流法)I<Sub>CEO</Sub>

检测对象:半导体光电耦合器

正向电压(输入二极管)V<Sub>F</Sub>反向电流(二极管)I<Sub>R</Sub>反向击穿电压(二极管)V<Sub>BR</Sub>集电极-发射极击穿电压V<Sub>(BR)CEO</Sub>集电极-发射极饱和电压V<Sub>CE(sat)</Sub>电流传输比CTR集电极-发射极截止电流(直流法)I<Sub>CEO</Sub>

GB/T 4587-2023

半导体器件 分立器件 第7部分:双极型晶体管

6 项检测项目

检测项目:集电极-基极截止电流(直流法)I<Sub>CBO</Sub>、发射极-基极截止电流(直流法)I<Sub>EBO</Sub>、集电极-发射极截止电流(直流法)I<Sub>CEO</Sub>、集电极-发射极饱和电压V<Sub>CEsat</Sub>、基极-发射极饱和电压V<Sub>BEsat</Sub>、共发射极正向电流传输比(输出电压保持不变) (直流或脉冲法)h<Sub>21E</Sub>

检测对象:双极型晶体管

集电极-基极截止电流(直流法)I<Sub>CBO</Sub>发射极-基极截止电流(直流法)I<Sub>EBO</Sub>集电极-发射极截止电流(直流法)I<Sub>CEO</Sub>集电极-发射极饱和电压V<Sub>CEsat</Sub>基极-发射极饱和电压V<Sub>BEsat</Sub>共发射极正向电流传输比(输出电压保持不变) (直流或脉冲法)h<Sub>21E</Sub>

微电子器件试验方法和程序 GJB548B-2005 方法

微电子器件试验方法和程序 GJB548B-2005 方法

4 项检测项目

检测项目:恒定加速度、X射线检查、芯片粘接的超声检测、外部目检

检测对象:微电子器件

恒定加速度X射线检查芯片粘接的超声检测外部目检

微电子器件试验方法和程序 GJB548C-2021 方法

微电子器件试验方法和程序 GJB548C-2021 方法

4 项检测项目

检测项目:恒定加速度、X射线检查、芯片粘接的超声检测、外部目检

检测对象:微电子器件

恒定加速度X射线检查芯片粘接的超声检测外部目检

电子及电气元件试验方法 GJB360B-2009 方法

电子及电气元件试验方法 GJB360B-2009 方法

4 项检测项目

检测项目:温度冲击试验、密封、粒子碰撞噪声检测试验、高温寿命试验

检测对象:电子及电气元件

温度冲击试验密封粒子碰撞噪声检测试验高温寿命试验

半导体分立器件试验方法 GJB128A-1997 方法

半导体分立器件试验方法 GJB128A-1997 方法

4 项检测项目

检测项目:粒子碰撞噪声检测试验、老炼(二极管、整流管、稳压管)、老炼(晶体管)、老炼和寿命试验【功率场效应晶体管或绝缘栅双极晶体管(IGBT)】

检测对象:半导体分立器件

粒子碰撞噪声检测试验老炼(二极管、整流管、稳压管)老炼(晶体管)老炼和寿命试验【功率场效应晶体管或绝缘栅双极晶体管(IGBT)】

电子及电气元件试验方法 GJB 360B-2009 方法

电子及电气元件试验方法 GJB 360B-2009 方法

4 项检测项目

检测项目:直流电阻、电容量、品质因数(Q)、绝缘电阻

检测对象:固定电阻器

直流电阻

检测对象:电容器

电容量品质因数(Q)绝缘电阻

半导体分立器件试验方法 GJB128B-2021 方法

半导体分立器件试验方法 GJB128B-2021 方法

3 项检测项目

检测项目:老炼(二极管、整流管、稳压管)、老炼(晶体管)、老炼和寿命试验【功率场效应晶体管或绝缘栅双极晶体管(IGBT)】

检测对象:半导体分立器件

老炼(二极管、整流管、稳压管)老炼(晶体管)老炼和寿命试验【功率场效应晶体管或绝缘栅双极晶体管(IGBT)】

电子设备用固定电感器第1部分:总规范 SJ/T 2885-2003 方法

电子设备用固定电感器第1部分:总规范 SJ/T 2885-2003 方法

3 项检测项目

检测项目:电感量、品质因数(Q)、直流电阻(DCR)

检测对象:固定电感器

电感量品质因数(Q)直流电阻(DCR)

GB/T 4586-1994

半导体器件 分立器件 第8部分:场效应晶体管 第Ⅳ章

3 项检测项目

检测项目:栅极截止电流或栅极泄漏电流、漏极截止电流、栅-源阈值电压V <Sub>GS(TO)</Sub>

检测对象:场效应晶体管

栅极截止电流或栅极泄漏电流漏极截止电流栅-源阈值电压V <Sub>GS(TO)</Sub>

军用电子元器件破坏性物理分析 GJB 4027A-2006 工作项目1103

军用电子元器件破坏性物理分析 GJB 4027A-2006 工作项目1103

2 项检测项目

检测项目:X射线检查、塑封半导体集成电路扫描声学显微镜检查

检测对象:微电子器件

X射线检查塑封半导体集成电路扫描声学显微镜检查

半导体分立器件试验方法 GJB 128B-2021 方法

半导体分立器件试验方法 GJB 128B-2021 方法

2 项检测项目

检测项目:温度循环(空气-空气)、粒子碰撞噪声检测试验

检测对象:半导体分立器件

温度循环(空气-空气)粒子碰撞噪声检测试验

GB/T 6571-1995

半导体器件 分立器件 第3部分:信号(包括开关)和调整二极管 第Ⅳ章第1节

2 项检测项目

检测项目:正向电压V<Sub>F</Sub>、反向电流I<Sub>R</Sub>

检测对象:信号(包括开关)和调整二极管

正向电压V<Sub>F</Sub>反向电流I<Sub>R</Sub>

GB/T 4587-1994

半导体分立器件和集成电路 第7部分:双极型晶体管 第Ⅳ章第1节

2 项检测项目

检测项目:发射极电流为零时的集电极-基极击穿电压V <Sub>(BR)CBO</Sub>、集电极电流为零时的发射极-基极击穿电压V <Sub>(BR)EBO</Sub>

检测对象:双极型晶体管

发射极电流为零时的集电极-基极击穿电压V <Sub>(BR)CBO</Sub>集电极电流为零时的发射极-基极击穿电压V <Sub>(BR)EBO</Sub>

军用电子元器件破坏性物理分析 GJB4027A-2006 工作项目1101

军用电子元器件破坏性物理分析 GJB4027A-2006 工作项目1101

1 项检测项目

检测项目:X射线检查

检测对象:微电子器件

X射线检查

军用电子元器件破坏性物理分析方法 GJB4027B-2021 工作项目1101

军用电子元器件破坏性物理分析方法 GJB4027B-2021 工作项目1101

1 项检测项目

检测项目:X射线检查

检测对象:微电子器件

X射线检查

军用电子元器件破坏性物理分析方法 GJB4027B-2021 工作项目1103

军用电子元器件破坏性物理分析方法 GJB4027B-2021 工作项目1103

1 项检测项目

检测项目:X射线检查

检测对象:微电子器件

X射线检查

军用电子元器件破坏性物理分析方法 GJB 4027B-2021 工作项目1103

军用电子元器件破坏性物理分析方法 GJB 4027B-2021 工作项目1103

1 项检测项目

检测项目:塑封半导体集成电路扫描声学显微镜检查

检测对象:微电子器件

塑封半导体集成电路扫描声学显微镜检查

GB/T 2423.2-2008

电工电子产品环境试验第2部分:试验方法 试验B:高温

1 项检测项目

检测项目:高温试验

检测对象:微电子器件

高温试验

半导体分立器件试验方法 GJB 128A-1997 方法

半导体分立器件试验方法 GJB 128A-1997 方法

1 项检测项目

检测项目:温度循环(空气-空气)

检测对象:半导体分立器件

温度循环(空气-空气)

半导体分立器件试验方法 GJB 128A-1997 方法1071条件H1及C

半导体分立器件试验方法 GJB 128A-1997 方法1071条件H1及C

1 项检测项目

检测项目:密封

检测对象:半导体分立器件

密封

半导体分立器件试验方法 GJB 128B-2021 方法1071条件H1及C

半导体分立器件试验方法 GJB 128B-2021 方法1071条件H1及C

1 项检测项目

检测项目:密封

检测对象:半导体分立器件

密封

机构信息

机构名称

重庆宏景芯科微电子技术研究院有限公司检测中心

所在地区

重庆市

企业地址

重庆高新区西永街道西园一路28号惠普研发楼01栋1-2层

法定代表人

权磊

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