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中国电子科技集团公司第四十六研究所中世博实验室

当前查看:中国电子科技集团公司第四十六研究所中世博实验室

北京市 · 北京市

地址:北京市海淀区万寿路27号

联系电话:010-68200821

数据更新时间

2026-05-12

能力范围

当前展示该机构前 100 条能力;该机构共 725 条能力记录。

按标准归类为 56 个标准,每个标准下方直接显示可检测项目,点击可展开全部。

SJ20388-1993

红外探测器用蓝宝石窗口规范

8 项检测项目

检测项目:表面粗糙度、几何尺寸、结晶完整性、气候环境试验、透过率、平行度、弯曲度、外观

检测对象:光电子材料

表面粗糙度几何尺寸结晶完整性气候环境试验透过率平行度弯曲度外观

SJ20640-1997

红外探测器用锑化铟单晶片规范

7 项检测项目

检测项目:位错密度、导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度、表面质量、表面粗糙度、抛光片厚度、短轴尺寸、A和B原子面

检测对象:光电子材料

位错密度导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度表面质量表面粗糙度抛光片厚度短轴尺寸A和B原子面

GB/T 30656-2023

碳化硅单晶抛光片

4 项检测项目

检测项目:直径测量、表面粗糙度、X射线双晶摇摆曲线半高宽、多型

检测对象:微电子材料

直径测量表面粗糙度X射线双晶摇摆曲线半高宽多型

SJ20641-1997

红外探测器用锑化铟单晶规范

4 项检测项目

检测项目:位错密度、导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度、规格尺寸、宏观质量

检测对象:光电子材料

位错密度导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度规格尺寸宏观质量

GB/T11072-2009

锑化铟多晶、单晶及切割片

4 项检测项目

检测项目:位错密度、导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度、表面质量、直径及厚度

检测对象:光电子材料

位错密度导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度表面质量直径及厚度

GB/T 5593-2015

电子元器件结构陶瓷材料

4 项检测项目

检测项目:体积电阻率、介电常数和介质损耗角正切值、热膨胀系数、导热系数

检测对象:陶瓷材料

体积电阻率介电常数和介质损耗角正切值热膨胀系数导热系数

GB/T25075-2010

太阳能电池用砷化镓单晶

3 项检测项目

检测项目:导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度、外形尺寸、外观、质量

检测对象:微电子材料

导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度外形尺寸外观、质量

GB/T 20230-2022

磷化铟单晶

3 项检测项目

检测项目:直径测量、外观、质量、导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

检测对象:微电子材料

直径测量外观、质量导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

SJ/T11199-2016

压电石英晶体片

3 项检测项目

检测项目:外观、外形尺寸、切角允差

检测对象:压电声光晶体材料

外观外形尺寸切角允差

GB/T5596-1996

电容器用陶瓷介质材料

3 项检测项目

检测项目:体积电阻率、介电常数和介质损耗角正切值、热膨胀系数

检测对象:陶瓷材料

体积电阻率介电常数和介质损耗角正切值热膨胀系数

GB/T 14619-2013

厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片 GB/T14619-2013

3 项检测项目

检测项目:体积电阻率、介电常数和介质损耗角正切值、热膨胀系数

检测对象:陶瓷材料

体积电阻率介电常数和介质损耗角正切值热膨胀系数

SJ 20389-1993

电子和电气设备用氧化铍陶瓷制品规范

3 项检测项目

检测项目:体积电阻率、介电常数和介质损耗角正切值、热膨胀系数

检测对象:陶瓷材料

体积电阻率介电常数和介质损耗角正切值热膨胀系数

GB/T 12963-2022

电子级多晶硅

2 项检测项目

检测项目:硅多晶断面夹层、外观、质量

检测对象:微电子材料

硅多晶断面夹层外观、质量

GJB1927A-2021

砷化镓单晶材料测试方法

2 项检测项目

检测项目:半绝缘砷化镓单晶中碳浓度、导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

检测对象:微电子材料

半绝缘砷化镓单晶中碳浓度导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

GB/T20228-2021

砷化镓单晶

2 项检测项目

检测项目:外形尺寸、导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

检测对象:微电子材料

外形尺寸导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

GB/T 13388-2009

硅片参考面结晶学取向X射线测试方法

1 项检测项目

检测项目:参考面结晶学取向

检测对象:微电子材料

参考面结晶学取向

GB/T 12965-2018

硅单晶切割片和研磨片

1 项检测项目

检测项目:直径测量

检测对象:微电子材料

直径测量

GB/T 30866-2014

碳化硅单晶片直径测试方法

1 项检测项目

检测项目:直径测量

检测对象:微电子材料

直径测量

GB/T5238-2019

锗单晶和锗单晶片

1 项检测项目

检测项目:几何参数

检测对象:微电子材料

几何参数

GB/T 14144-2009

硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法

1 项检测项目

检测项目:硅晶体中间隙氧含量径向变化

检测对象:微电子材料

硅晶体中间隙氧含量径向变化

GB/T 4061-2009

硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法

1 项检测项目

检测项目:硅多晶断面夹层

检测对象:微电子材料

硅多晶断面夹层

GB/T 4058-2009

硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

1 项检测项目

检测项目:硅抛光片氧化诱生缺陷

检测对象:微电子材料

硅抛光片氧化诱生缺陷

GB/T 12964-2018

硅单晶抛光片

1 项检测项目

检测项目:硅抛光片氧化诱生缺陷

检测对象:微电子材料

硅抛光片氧化诱生缺陷

GB/T 19199-2015

半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法

1 项检测项目

检测项目:半绝缘砷化镓单晶中碳浓度

检测对象:微电子材料

半绝缘砷化镓单晶中碳浓度

GB/T 34481-2017

低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法

1 项检测项目

检测项目:低位错锗单晶片腐蚀坑密度

检测对象:微电子材料

低位错锗单晶片腐蚀坑密度

GB/T 29505-2013

硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法

1 项检测项目

检测项目:表面粗糙度

检测对象:微电子材料

表面粗糙度

GB/T 1031-2009

产品几何技术规范(GPS) 表面结构 轮廓法 表面粗糙度参数及其数值

1 项检测项目

检测项目:表面粗糙度

检测对象:微电子材料

表面粗糙度

SJ/T 11503-2015

碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法

1 项检测项目

检测项目:表面粗糙度

检测对象:微电子材料

表面粗糙度

GB/T 32189-2015

氮化镓单晶衬底表面粗糙度的原子力显微镜检验法

1 项检测项目

检测项目:表面粗糙度

检测对象:微电子材料

表面粗糙度

GB/T 14849.4-2014

工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

1 项检测项目

检测项目:工业硅中杂质元素含量

检测对象:微电子材料

工业硅中杂质元素含量

GB/T 32188-2015

氮化镓单晶衬底片X射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法

1 项检测项目

检测项目:X射线双晶摇摆曲线半高宽

检测对象:微电子材料

X射线双晶摇摆曲线半高宽

GB/T 42676-2023

半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法

1 项检测项目

检测项目:X射线双晶摇摆曲线半高宽

检测对象:微电子材料

X射线双晶摇摆曲线半高宽

GB/T 34612-2017

蓝宝石晶体X射线双晶衍射摇摆曲线测量方法

1 项检测项目

检测项目:X射线双晶摇摆曲线半高宽

检测对象:微电子材料

X射线双晶摇摆曲线半高宽

GB/T 43313-2023

碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法

1 项检测项目

检测项目:微管密度

检测对象:微电子材料

微管密度

GB/T 30868-2014

碳化硅单晶片微管密度的测定 化学腐蚀法

1 项检测项目

检测项目:微管密度

检测对象:微电子材料

微管密度

GB/T 40219-2021

拉曼光谱仪通用规范

1 项检测项目

检测项目:多型

检测对象:微电子材料

多型

GB/T 41751-2022

氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法

1 项检测项目

检测项目:晶面曲率半径

检测对象:微电子材料

晶面曲率半径

GB/T 24576-2009

高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法

1 项检测项目

检测项目:Al成分

检测对象:微电子材料

Al成分

GJB 6190-2008

电磁屏蔽材料屏蔽效能测量方法

1 项检测项目

检测项目:电磁屏蔽效能

检测对象:微电子材料

电磁屏蔽效能

GB/T11297.6-1989

锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法

1 项检测项目

检测项目:位错密度

检测对象:光电子材料

位错密度

GB/T11297.7-1989

锑化铟单晶电阻率及霍尔系数测试方法

1 项检测项目

检测项目:导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

检测对象:光电子材料

导电类型、电阻率、霍尔系数、迁移率、载流子浓度

GB/T3505-2009

产品几何技术规范(GPS) 表面结构 轮廓法 术语、定义及表面结构参数

1 项检测项目

检测项目:表面粗糙度

检测对象:光电子材料

表面粗糙度

GB/T 1554-2009

硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法

1 项检测项目

检测项目:硅晶体完整性

检测对象:微电子材料

硅晶体完整性

SJ20387-1993

红外探测器用蓝宝石窗口性能试验方法

1 项检测项目

检测项目:蓝宝石透过率

检测对象:光电子材料

蓝宝石透过率

GB/T 14142-2017

硅外延层晶体完整性检查方法 腐蚀法

1 项检测项目

检测项目:硅晶体完整性

检测对象:微电子材料

硅晶体完整性

GB/T3284-2015

石英玻璃化学成分分析方法

1 项检测项目

检测项目:石英化学成分

检测对象:压电声光晶体材料

石英化学成分

JB/T 9495.3-1999

光学晶体透过率 测量方法

1 项检测项目

检测项目:透过率

检测对象:压电声光晶体材料

透过率

GB/T 5594.5-1985

电子元器件结构陶瓷材料性能测试方法 体积电阻率测试方法

1 项检测项目

检测项目:体积电阻率

检测对象:陶瓷材料

体积电阻率

GB/T 25076-2018

太阳电池用硅单晶

1 项检测项目

检测项目:硅晶体完整性

检测对象:微电子材料

硅晶体完整性

GB/T 5594.4-2015

电子元器件结构陶瓷材料性能测试方法 第4部分:介电常数和介质损耗角正切值测试方法

1 项检测项目

检测项目:介电常数和介质损耗角正切值

检测对象:陶瓷材料

介电常数和介质损耗角正切值

GB/T 7265.2-1987

固体电介质微波复介电常数的测试方法 "开式腔"法

1 项检测项目

检测项目:介电常数和介质损耗角正切值

检测对象:陶瓷材料

介电常数和介质损耗角正切值

GB/T 12962-2015

硅单晶

1 项检测项目

检测项目:硅晶体完整性

检测对象:微电子材料

硅晶体完整性

GB/T16535-2008

精细陶瓷热膨胀系数试验方法 顶杆法

1 项检测项目

检测项目:热膨胀系数

检测对象:陶瓷材料

热膨胀系数

GB/T 5594.3-2015

电子元器件结构陶瓷材料性能测试方法 第3部分:平均线膨胀系数测试方法

1 项检测项目

检测项目:热膨胀系数

检测对象:陶瓷材料

热膨胀系数

GB/T 5598-2015

氧化铍瓷导热系数测定方法

1 项检测项目

检测项目:导热系数

检测对象:陶瓷材料

导热系数

GB/T 5594.6-2015

电子元器件结构陶瓷材料性能测试方法 第6部分:化学稳定性测试方法

1 项检测项目

检测项目:化学稳定性

检测对象:陶瓷材料

化学稳定性

机构信息

机构名称

中国电子科技集团公司第四十六研究所中世博实验室

所在地区

北京市 · 北京市

企业地址

北京市海淀区万寿路27号

法定代表人

王海波

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